A
Admin
Yönetici
Yönetici
TSMC’nin 2 nm sürecinde mevcut EUV makineleriyle yüksek verimde toplu üretim sürüyor. Ancak şirket 1,4 nm ve 1 nm gibi alt-2 nm düğümlere (sırasıyla A14 ve A10) geçerken üretim tarafında ciddi engellerle karşılaşacak. Bu noktada pahalı High-NA EUV makineleri almak yerine, TSMC’nin fotomask peliküllerine yönelmesi bekleniyor. High-NA yerine pelikül: Daha düşük maliyet, daha...